Sfærisk silica mikropulverhar fremragende egenskaber såsom høj gennemsigtighed, høj dielektrikum, høj fugtmodstand, høj fyldmængde, lav ekspansion, lav stress og lav friktionskoefficient. Det er meget udbredt inden for mange områder såsom epoxystøbematerialer, katalysatorer, kobberbeklædte paneler, klæbemidler og rumfart.
På nuværende tidspunkt omfatter de almindelige metoder til fremstilling af sfæriske siliciummikropulvere flammedannende metoder, højtemperatursmeltesprøjtemetoder osv. Flammesfæroidiseringsmetoden involverer hovedsageligt knusning, sigtning, oprensning, finformaling af kvartsmalm og derefter tilførsel af det til højtemperaturfelt genereret af gas til højtemperatursmeltning. Gennem overfladespændingssfæroidisering opnås endelig kugleformet siliciummikropulver ved afkøling. Ulempen ved denne metode er, at processen er kompleks, og kvartsmalmen er svær at fjerne fuldstændigt, med lav renhed og højt energiforbrug i det afsluttende højtemperaturkugletrin. Højtemperatursmeltespraymetoden er at smelte siliciumoxidet til væske ved mere end 2000 grader og derefter danne sfærisk siliciumpulver efter sprayafkøling. Denne metode er hovedsageligt vedtaget i USA og Japan, hvilket kræver strengt udstyr.
Den foreliggende opfindelse beskriver et fast sfærisk siliciummikropulver og en fremstillingsmetode deraf, hvor fremstillingsmetoden omfatter:
(1) Syntese af silicasol
Silicasol med lavt faststofindhold (1-5%) blev syntetiseret ved opløsning-gel-metoden ved at bruge tetraethylorthosilicat som den organiske siliciumkilde, opvarmning og omrøring under alkaliske forhold.
(2) Silicasolkoncentration
Opvarm og koncentrer den ovenfor nævnte silicasol med lavt faststofindhold for at opnå en silicasol med højt faststofindhold (15% -50%).
(3) Materialeblanding og blanding
Silicasolen og fortykningsmidlet med højt faststofindhold blev blandet og blandet under opvarmnings- og omrøringsbetingelser til dannelse af en silicasolopløsning indeholdende 0,001 % -5 % fortykningsmiddel. Det valgte fortykningsmiddel er i dette tilfælde et specifikt fortykningsmiddel indeholdende carboxyl- eller amidgrupper, såsom polyacrylamid, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, polyacrylsyre, polymethylacrylsyre, carbomer osv., som er let at adsorbere eller reagere med siliciumhydroxylgrupperne på overfladen af silica, hvilket letter aggregeringen af nano-silica-partikler. Fortykningsmidler indeholder ikke natrium- eller kaliumioner for at undgå kationisk interferens. Det optimale indhold af fortykningsmiddel er 0,05% -2%, og det mest optimale er 0,1% -1%.
(4) Spraytørring
Efter at den sammensatte silicasol er tørret ved spray (både pneumatisk og centrifugal), kan sfærisk silicapulver opnås, men på dette tidspunkt er fugtindholdet 5 % - 10 %, og det specifikke fortykningsmiddel fjernes ved højtemperaturkalcinering .
(5) Varmebehandling
Produktet opnået efter spraytørring sendes til muffelovn til højtemperatur varmebehandling for at brænde det overskydende fortykningsmiddel af. Derefter afkøles det til stuetemperatur og tages ud for at opnå det målrettede sfæriske siliciumpulver med høj renhed.
Gennem ovenstående proces kan sfærisk silica-mikropulver med en renhed på 99,999% opnås, og tilberedningsprocessen er enkel og nem, med lavt energiforbrug og lave omkostninger.
SAT NANO er en af de bedste leverandører af sfærisk silica mikropulver, vi tilbyder 300nm, 500nm, 1000um, hvis du har nogen forespørgsel, er du velkommen til at kontakte os sales03@satnano.com
